euv
-
ASML介紹新一代高NA EUV光刻機:芯片縮小1.7倍、密度增加2.9倍
按照業內預判,2025年前後半導體在微縮層面將進入埃米尺度(Å,angstrom,1埃 =0.1納米),其中2025對應A14(14Å=1.4納米)。除了新晶體管結構、2D材料,還…
-
3億美元單價翻倍 ASML下一代EUV光刻機提前量產
在上月的ITF大會上,半導體行業大腦imec(比利時微電子研究中心)公布的藍圖顯示,2025年後晶體管進入埃米尺度(Å,angstrom,1埃 =0.1納米),其中2025對應A1…
-
ASML亞洲EUV輔助工廠及培訓中心將落地韓國
據媒體報道,本周四,ASML(荷蘭阿斯麥)CEO Peter Wennink到訪韓國,表示將支持當地的芯片集群。ASML再度確認,今年5月份宣布的,在華城投資2400億韓元(約合1…
-
鎧俠開發NIL半導體工藝 無需EUV光刻機製程直奔5nm
在半導體工藝進入10nm節點之後,EUV工藝是少不了的,但是EUV光刻機價格高達10億一台,而且產量有限,導致芯片生產成本很高。日本鎧俠公司現在聯合夥伴開發了新的工藝,可以不使用E…
-
ASML三季度業績激增:EUV光刻機出貨量刷新紀錄
ASML稱,三季度,EUV光刻機系統的訂單量達到了29億歐元,且當季的出貨量和收入創下歷史新高 … ASML主力EUV光刻機是TWINSCAN NXE:3600D,其在…
-
業內預計ASML市值明年有望達5000億美元 猛追英偉達台積電
10月12日消息,知名風險投資公司Air Street Capital的創始人兼普通合伙人內森·貝納奇(Nathan Benaich)和將AI初創公司SongKick出售給華納音樂…
-
三星電子開始採用EUV技術批量生產14納米DRAM芯片
據外媒報道,全球最大存儲芯片製造商三星電子周二宣布,該公司開始使用極紫外光刻(EUV)技術批量生產業界最小的 14 納米DRAM芯片,這有助於其鞏固在存儲行業的領導地位。繼去年 3…
-
1γ節點開始導入 美光確認EUV工藝DRAM內存芯片2024年量產
CPU、GPU為代表的邏輯工藝製程進入7nm之後,EUV光刻工藝是少不了的。現在內存還停留在10nm工藝級別,暫時沒用到EUV工藝。不過三星、SK海力士及美光也確定未來會用,其中美…
-
英特爾全力押注EUV工藝 爭取首發下代高NA光刻機
Intel這幾年在工藝進度上落後跟10nm、7nm工藝多次跳票有關,而新工藝延期也跟Intel此前不考慮EUV工藝有關,所以10nm工藝才上了四重曝光,導致良率上不去,遲遲無法量產…
-
Intel 全力押注 EUV 工藝 爭取首發下代高 NA 光刻機
Intel 這幾年在工藝進度上落後跟 10nm、7nm 工藝多次跳票有關,而新工藝延期也跟 Intel 此前不考慮 EUV 工藝有關,所以 10nm 工藝才上了四重曝光,導致良率上…