Intel這幾年在工藝進度上落後跟10nm、7nm工藝多次跳票有關，而新工藝延期也跟Intel此前不考慮EUV工藝有關，所以10nm工藝才上了四重曝光，導致良率上不去，遲遲無法量產 … Intel之前認為EUV工藝不夠成熟，現在EUV光刻工藝已經量產幾年了，Intel也開始跟進了，原先的7nm工藝、現在的Intel 4工藝會是全面使用EUV光刻機的開始，首款產品是Meteor Lake流星湖，2023年發布 … 之後的Intel 3工藝、Intel 20A工藝上也會持續利用EUV工藝，進一步提升性能及能效。
媒體報道：
21-07-27 鳳凰科技: 英特爾全力押注EUV工藝 爭取首發下代高NA光刻機
相關事件：
21-07-27 英特爾全力押注EUV工藝 爭取首發下代高NA光刻機
21-06-11 東京電子將向ASML提供面向新一代EUV的設備
21-05-17 全球光刻機龍頭ASML將赴韓國建EUV設備再制廠及培訓中心
21-02-24 SK海力士用43.4億美元拿下ASML EUV光刻機設備五年採購合同
21-01-02 ASML 完成第 100 台 EUV 光刻機出貨：2021 年產能將大增
