euv
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三星電子開發出透光率達 88% 的 EUV 薄膜
訪問原網址 IT之家 1 月 15 日消息,光罩護膜 / 薄膜是極紫外 (EUV) 光刻工藝中的關鍵部件,指的是在光罩上展開的一層薄膜,然後用機器在上面繪製要在晶圓上壓印的電路,旨…
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ASML:2022年將生產超50台EUV光刻機設備
訪問原網址 集微網消息,據TheElec報道,ASML近日在“2022半導體EUV生態系統全球大會”上指出,預計今年EUV生產台數將超過50台。 2019年ASML的EUV設備生產…
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ASML:所有EUV客戶均訂購了下一代高NA極紫外光刻機 單價翻番到26億
ASML(荷蘭阿斯麥)正抓緊研製其下一代高NA(0.55數值孔徑)的EUV極紫外光刻機,在發布最新財報期間,AMSL透露,其存量EUV客戶均訂購了新一代設備。具體來說,在Intel…
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Intel承認在EUV光刻上犯錯:當年太自信
最近幾年,台積電及三星在半導體工藝上超越了Intel,後者在14nm節點之前都是全球最先進的半導體公司,然而在10nm節點面臨各種困難,給了對手可乘之機。Intel在這個過程中是如…
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售價25億的“電老虎” 下代EUV光刻機功耗飆到200萬瓦
隨着半導體工藝進入7nm以內,EUV光刻機是必不可少的關鍵設備,全球只有ASML公司能生產,現在NA 0.33孔徑的EUV光刻機售價高達1.5億美元,約合10億一台,不過下一代會更…
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ASML 計劃明年將向客戶交付首台 High-NA EUV 光刻機
訪問原網址 品玩9月28日訊,據 IT 之家報道,ASML 首席技術官 Martin van den Brink 日前表示,ASML 正在準備向客戶交付首台 High-NA EUV…
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ASML首席技術官認為當前光刻技術或走到盡頭
近年來,ASML站到了世界半導體技術的中心位置。去年ASML兩次提高了生產目標,希望到2025年,其年出貨量能達到約600台DUV(深紫外光)光刻機以及90台EUV(極紫外光)光刻…
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繞開EUV光刻機 美國實現0.7nm芯片:真有那麼神奇?
近日,一則美國製造出了0.7納米芯片的芯片在筆者的朋友圈傳播。與此同時傳播的新還有類似繞開EUV光刻機、美國打造全球分辨率最高光刻系統。這究竟是個什麼新聞?從現階段看EUV光刻機會…
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日耗電3萬度 EUV光刻機要關機省電?台積電回應
此前有消息稱由於先進工藝產能過剩,台積電計劃今年底將部分EUV光刻機關機,以便節省電費支出,台積電日前也回應了,表示不評論市場傳聞。台積電稱,本公司針對機台設備皆有年度規劃,並依循…
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先進工藝過剩 台積電計劃關閉部分EUV光刻機以節電
EUV光刻機是半導體製造中的核心設備,只有ASML公司才能生產,單台售價約10億人民幣,之前三星、台積電等公司還要搶着買,然而今年半導體形勢已經變了,EUV光刻機反而因為耗電太多,…