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品玩9月28日訊,據 IT 之家報道,ASML 首席技術官 Martin van den Brink 日前表示,ASML 正在準備向客戶交付首台 High-NA EUV 光刻機,大概會在明年某個時間點完成。
Brink 表示, ASML 正有序推行其路線圖,在 EUV 之後是 High-NA EUV 技術。High-NA EUV 光刻機會比現有的 EUV 光刻機更為耗電,從 1.5 兆瓦增加到 2 兆瓦。主要原因是因為光源,High-NA 使用了相同的光源需要額外 0.5 兆瓦,ASML 還使用水冷銅線為其供電。
媒體報道
- CNBeta IT 之家 網易新聞 品玩
事件追蹤
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