2nm芯片研發遭遇瓶頸:沒ASML下一代NA EUV光刻機搞不掂

在業內,比Intel、台積電、三星還要早就能接觸到ASML光刻機新品的是比利時微電子研究中心(IMEC),雖然名氣不大,但其實它是世界上最大的半導體專門研究機構。因為離得近,ASML的原型試做機,往往在完工後就第一時間送交IMEC評估嘗鮮。

日前,IMEC首席執行官Luc Van den hove在公開路線圖時表示,當前的EUV光刻設備其實可以響應到2nm的微縮水平,不過,想要超越,必須要靠下一代高NA EUV光刻機。

他督促ASML在未來3年內,全力投產高NA光刻機。

所謂高NA也就是光刻機的透鏡和反射鏡數值孔徑達到0.55,進而增加光刻分辨率,以便製備更精密的為電路圖像。當前的EUV光刻機均停留在0.33的水平。

一切順利的話,ASML會在明年推出其首款高NA EUV光刻機,Intel、三星和台積電都爭相第一時間部署進廠,其中Intel下手最快。

這款光刻機價值高達4億美元(約合26億元人民幣),組裝好的體積有雙層巴士大、重超200噸。

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上一篇 2022-08-10 19:27
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