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ASML:所有EUV客戶均訂購了下一代高NA極紫外光刻機 單價翻番到26億
ASML(荷蘭阿斯麥)正抓緊研製其下一代高NA(0.55數值孔徑)的EUV極紫外光刻機,在發布最新財報期間,AMSL透露,其存量EUV客戶均訂購了新一代設備。具體來說,在Intel…
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貓頭鷹(Noctua)推出用於AMD AM5的NA-TPG1導熱膏防護裝置
Noctua(貓頭鷹)今天發布了用於AMD最新基於AM5的Ryzen處理器的NA-TPG1導熱膏防護裝置。因為這一代處理器的獨特外形設計,當散熱器貼合的同時,多餘的導熱膏會被向外擠…
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售價25億的“電老虎” 下代EUV光刻機功耗飆到200萬瓦
隨着半導體工藝進入7nm以內,EUV光刻機是必不可少的關鍵設備,全球只有ASML公司能生產,現在NA 0.33孔徑的EUV光刻機售價高達1.5億美元,約合10億一台,不過下一代會更…
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台積電CTO預計高NA光刻后時代的芯片製造成本會暴漲
在接受 Bits & Chips 採訪時,台積電首席技術官 Martin van den Brink 預計 —— 在不遠的將來,半導體光刻技術或走到盡頭。按照現有的路線圖,…
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2nm芯片研發遭遇瓶頸:沒ASML下一代NA EUV光刻機搞不掂
在業內,比Intel、台積電、三星還要早就能接觸到ASML光刻機新品的是比利時微電子研究中心(IMEC),雖然名氣不大,但其實它是世界上最大的半導體專門研究機構。因為離得近,ASM…
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單價超19億 Intel下單訂購首台ASML最先進EUV光刻機
1月19日最新消息,Intel宣布第一個下單訂購了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機。TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA(數值孔徑)EUV光刻機,…
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ASML介紹新一代高NA EUV光刻機:芯片縮小1.7倍、密度增加2.9倍
按照業內預判,2025年前後半導體在微縮層面將進入埃米尺度(Å,angstrom,1埃 =0.1納米),其中2025對應A14(14Å=1.4納米)。除了新晶體管結構、2D材料,還…