在半導體製造上，國內廠商需要突破的不只是光刻機等核心設備，光刻膠也是重要的一環。南大光電日前宣布，該公司研發的高端ArF光刻機已經獲得了國內某企業的認證，用於55nm工藝製造。
南大光電於5月31日晚間發布公告，控股子公司寧波南大光電自主研發的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲芯片製造企業的50nm閃存平台上通過認證后，近日又在邏輯芯片製造企業55nm技術節點的產品上取得了認證突破，表明公司光刻膠產品已具備55nm平台後段金屬布線層的工藝要求。
不過南大光電沒有透露具體的客戶名字。
在光刻機市場上，國內自給率極低，歐美日等地區的廠商佔據主要份額，JSR、信越化學等TOP5廠商佔據全球87%的份額。
光刻膠有不同的技術類別，低端的中g線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠完全依賴進口，是國內半導體的卡脖子技術之一。
雖然南大光電的ArF光刻膠現在通過的是55nm工藝認證，但ArF光刻膠涵蓋的工藝技術很廣，可用於90nm-14nm甚至7nm 技術節點製造工藝，廣泛應用於高端芯片製造（如邏輯芯片、 存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和雲計算芯片等）。