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IT之家 1 月 15 日消息，光罩護膜 / 薄膜是極紫外 (EUV) 光刻工藝中的關鍵部件，指的是在光罩上展開的一層薄膜，然後用機器在上面繪製要在晶圓上壓印的電路，旨在使光罩免受空氣中微塵或揮發性氣體的污染並減少光掩模損壞，該領域目前仍由荷蘭 ASML、日本三井化學主導，而韓國 S&S Tech 等後來居上者也是主要供應商之一。
韓媒 ETNews 報道稱，三星電子已經自主開發出了透光率高達 88% 的 EUV 薄膜，有助於實現供應鏈多元化和穩定。據證實，這款透光率 88% 的 EUV 薄膜產品已經可以大規模生產。
▲EUV 薄膜（pellicle） 圖源：ASML
IT之家獲悉，三星電子在去年的 2021 Foundry Forum 上宣布自研 EUV 薄膜，當時還公開宣布他們開發出了 82% 透光率薄膜技術，並宣布到 2022 年將擁有 88% 透光率的量產系統。
值得一提的是，韓國公司 S&S Tech 在 2021 年生產成功開發出了透光率達 90% 的半導體 EUV 薄膜，一舉成為除了 ASML 之外另一家成功開發出了透光率超過 90% 的 EUV 薄膜的公司。據稱，三星對它的要求是將比率提高到 94%。
業界預測，今年 EUV 薄膜的需求將比去年增加近 2 倍，而韓國國產的 EUV 薄膜最早將會在 1~2 年內商用化。此外，台積電也正在加快開發自己的產品以確保 EUV 薄膜可控。
▲ASML 曝光過程圖
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