光刻
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美國Zyvex造出0.7nm線寬芯片 相當於2個硅原子寬度
當ASML的EUV光刻機還在為製造2nm、1nm芯片發愁的時候,美國公司卻在另一個先進光刻方向上取得了突破,Zyvex使用電子束光刻技術製造了768皮米,也就是0.7nm的芯片,這…
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光刻技術的發明國卻沒有光刻機背後的原因
光刻可以說是半導體製造中最重要的一步。今天最先進的 EUV 光刻機是極其複雜的機器,其成本與一架新的波音噴氣式客機一樣高。從 1984 年與飛利浦的合資企業開始,ASML 已經發展…
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上海光機所計算光刻技術研究取得進展
近日,中國科學院上海光學精密機械研究所信息光學與光電技術實驗室提出一種基於虛擬邊(Virtual Edge)與雙採樣率像素化掩模圖形(Maskpixelation with two…