美國Zyvex造出0.7nm線寬芯片 相當於2個硅原子寬度

當ASML的EUV光刻機還在為製造2nm、1nm芯片發愁的時候,美國公司卻在另一個先進光刻方向上取得了突破,Zyvex使用電子束光刻技術製造了768皮米,也就是0.7nm的芯片,這種芯片可用於量子計算機。

Zyvex推出的光刻系統名為ZyvexLitho1,基於STM掃描隧道顯微鏡,使用的是EBL電子束光刻方式,製造出了0.7nm線寬的芯片,這個精度是遠高於EUV光刻系統的,相當於2個硅原子的寬度,是當前製造精度最高的光刻系統。

這個光刻機製造出來的芯片主要是用於量子計算機,可以製造出高精度的固態量子器件,以及納米器件及材料,對量子計算機來說精度非常重要。

美國Zyvex造出0.7nm線寬芯片 相當於2個硅原子寬度

ZyvexLitho1不僅是精度最高的電子束光刻機,而且還是可以商用的,Zyvex公司已經可以接受其他人的訂單,機器可以在6個月內出貨。

EBL電子束光刻機的精度可以輕鬆超過EUV光刻機,然而這種技術的缺點也很明顯,那就是產量很低,無法大規模製造芯片,只適合製作那些小批量的高精度芯片或者器件,指望它們取代EUV光刻機也不現實。

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