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中科院:計算光刻技術取得重大進展
近日,中科院上海光學精密機械研究所信息光學與光電技術實驗室提出一種基於虛擬邊(Virtual Edge)與雙採樣率像素化掩模圖形(Mask pixelation with two-…
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2021-06-10