中科院:計算光刻技術取得重大進展

近日,中科院上海光學精密機械研究所信息光學與光電技術實驗室提出一種基於虛擬邊(Virtual Edge)與雙採樣率像素化掩模圖形(Mask pixelation with two-phase sampling)的快速光學鄰近效應修正技術(Optical proximity correction, OPC) … 雙採樣率像素化掩模充分利用了成像系統的衍射受限屬性,在粗採樣網格上進行成像計算與異常檢測,在精採樣網格上進行掩模修正,兼顧了成像計算效率與掩模修正分辨率 … 利用多種掩模圖形進行驗證,仿真結果表明該OPC技術的修正效率優於常用的基於啟髮式算法的OPC技術。

媒體報道:
21-06-10 鳳凰科技: 中科院:計算光刻技術取得重大進展

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