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ASML分享High-NA EUV光刻機新進展 目標2024-2025年進廠
為了順利用上極紫外光刻(EUV)技術來生產芯片,半導體行業耗費了十多年時間才走到今天這一步。不過從荷蘭阿斯麥(ASML)最近更新的 2024-2025 路線圖來看,抵達具有高數值孔…
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Horizon Aeronautics公司正打造eVTOL懸浮摩托車原型
Horizon Aeronautics公司正在製作一個eVTOL懸浮摩托車概念的原型機,它採用了複雜而有趣的分體式 “Blainjett “變距轉子系統,每…