意法半導體或將進軍10nm工藝

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意法半導體或將進軍10nm工藝

集微網消息 12月8日,半導體產業分析師 Dylan Patel發布了一條推特稱意法半導體未來將進軍10nm工藝,不過考慮到提到的晶圓廠直到2026年才能滿負荷生產18nm工藝,實現10nm工藝的具體時間可能較晚。

意法半導體或將進軍10nm工藝

圖源:推特

據Dylan Patel在推文中介紹,意法半導體將每月生產5萬片晶圓18nm FD-SOI,後續將轉向下一個節點,採用10nm工藝,該意法半導體晶圓廠將與GlobalFoundries合作生產。

早在今年7月,意法半導體曾與格芯宣布投資57億歐元(約418.38億元人民幣),在法國建造一座新的半導體廠。新廠位於意法半導體法國克羅爾(Crolles)現有的12英寸300mm 晶圓廠附近,將僱用1000名員工,並將得到法國政府大量的財務支持。該工廠目標是到2026年滿載生產,屆時年產能將達62萬片300mm晶圓。今年10月,意法半導體又官宣其又一大擴產計劃,將在意大利卡塔尼亞(Catania)投資7.3億歐元建造一條6英寸碳化硅襯底生產線,預計於2023年投產。

從目前布局看,在傳統產品線之外,先進製程與寬禁帶材料是意法半導體未來兩大投入重點。在先進製程方面,意法半導體重啟了向1X納米工藝節點的進軍,明確選擇了FD-SOI技術路線為突破重點。

全球半導體產業布局上,意法半導體及其戰略布局對國內產業發展頗具借鑒意義,為中國產業界帶來了有力的鼓舞。對於國內而言,先進製程邏輯芯片製造面臨著更為嚴峻的外部遏制壓力,大陸產學研機構也有不少正在FD-SOI技術路線上默默耕耘,這條能夠繞開EUV的“小路”,有必要得到更多企業更大力度的“平整”和“拓寬”。(校對/李曉延)

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