解密上海微電子新型光刻機黑科技:提高分辨率 降低成本

上海微電子於2018年12月30日申請了一項名為“一種光刻投影物鏡及光刻機”的發明專利(申請號: 201811648523.1),申請人為上海微電子裝備(集團)股份有限公司 … 圖1為本發明提出的光刻投影物鏡的結構示意圖,包括第一透鏡組、第二透鏡組和第三透鏡組,以及與以上透鏡組關於光闌對稱設置的第四透鏡組、第五透鏡組和第六透鏡組 … 第一透鏡組G1、第三透鏡組G3、第四透鏡組G4以及第六透鏡組G6具有正的光焦度,第二透鏡組G2以及第五透鏡組g5具有負的光焦度。

媒體報道:
21-10-24 CNBeta: 上海微電子新型光刻機專利曝光 可提高光刻機的分辨率
21-10-24 鳳凰科技: 解密上海微電子新型光刻機黑科技:提高分辨率 降低成本

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上一篇 2021-10-25 09:50
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