包括AMD及NVIDIA在內的半導體公司都預測今年下半年全球芯片產能緊張的局面就會緩解，然而生產光刻機的ASML公司對此表示質疑，該公司CEO Peter Wennink日前警告稱半導體芯片製造公司的生產計劃野心勃勃，但可能面臨設備短缺。
Peter Wennink在採訪中表示，儘管各大半導體公司投資了數十億甚至數百億美元以提高產能，然而他們並不可能快速提高產能，因為制約產能的還有半導體設備。
在接下來的兩年中，芯片產量的增長將進一步受到設備不足的限制，這都需要時間來解決。
就連ASML公司自己的光刻機生產都受到了限制，不過Intel CEO基辛格此前表示他們已經派人去幫助ASML公司加速生產。
Intel並沒有提及他們派出多少工程師以及是怎樣幫助ASML提高光刻機產量的，但是他們很可能協助ASML加速新一代EUV光刻機的生產。
現在的EUV光刻機還是NA 0.33技術的，Intel的重點押注在了下一代EUV光刻機，也就是NA 0.55的ASML新一代光刻機，據說成本高達3億美元，約合19億元。
實際上4年來Intel實際上已經下單了6台NA 0.55的EUV光刻機，其中分為兩種，Twinscan Exe:5000系列主要用於工藝研發，產能輸出是185WPH，每小時生產185片晶圓，2023年上半年交付。
量產型的NA 0.55光刻機是Twinscan Exe:5200，產能提升到200WPH，每小時200片晶圓，預計會在2024年下線，Intel的20A工藝正好是在2024年量產。
