光刻機全球龍頭ASML在美國的銷售額連續3年下降，與此形成鮮明對比的是，同期ASML在韓國和中國台灣地區的銷量增幅高達3倍，證明美國對半導體生產基礎設施的投資不足。
據ETNews報道，ASML佔全球光刻機市場的84%，並獨家供應先進工藝所需的EUV光刻機。引進其設備的數量會影響半導體生產能力，因此其銷售額能夠被用于衡量各地區對半導體設備投資情況。
財報顯示，2019年到2021年，ASML在美國的收入下降了約20%。從2019年的19.8億歐元，到2020年和2021年分別減少到16.57億歐元和15.83億歐元。
同期，ASML在亞洲的銷售額顯著增長。在主要的半導體生產基地韓國，銷售額從2019年的22.02億歐元增長到2021年的62.23億歐元，增長了近兩倍。
中國台灣地區也從2019年的53.57億歐元增長到去年的73.27億歐元，增幅為37%。這是三星電子和SK海力士為擴大尖端微處理能力，引進了大量EUV光刻機的結果。台積電大舉投資半導體設備，也推動了銷售的增長。
在美國禁止出口ASML核心設備EUV曝光設備的中國大陸，其年銷售額也翻了一番，從2019年的13.77億歐元增至2021年的27.4億歐元。據分析，中國大陸購買的光刻設備比美國還多。除受管制的EUV設備外，主要引進了ArF、KrF、i線等光刻設備。
ASML在美國的銷量下降證明，美國在半導體生產基礎設施方面的投資到目前為止還不夠。到2020年，美國缺乏投資半導體晶圓廠的意願。據分析，這是因為英特爾宣布進入代工領域的時間較晚，以及美光曾經對EUV設備持懷疑態度。
隨着美國吸引本國的半導體生產基地，ASML設備的引進預計將會加速。英特爾計劃到2025年採用ASML下一代曝光設備，美光也正式使用EUV設備。
但是半導體業界預測，美國的半導體生產能力不會立即超過中國台灣和韓國。半導體業界有關人士表示:“作為ASML的主要銷售和核心設備的EUV設備在中國台灣為80台，在韓國為50台，與美國存在差距。美國大舉投資不會導致短期產能逆轉。”（校對/隱德萊希）