3nm比5nm提升多少?台積電公布三大關鍵指標

近年來,摩爾定律正在逐漸消失的說法不絕於耳。但台積電工藝證明,摩爾定律不死,仍在持續往前推進。工藝越先進,晶體管微縮越困難。此前,聯電、格芯相繼放棄10nm以下的先進製程的研發,Intel也在工藝製程上持續放緩。

3nm比5nm提升多少?台積電公布三大關鍵指標

據芯智訊消息,12月22日舉辦的中國集成電路設計業2021年會暨無錫集成電路產業創新發展高峰論壇上,台積電(南京)有限公司總經理羅鎮球表示,台積電正在用新工藝證明了摩爾定律仍在持續往前推進。

羅鎮球介紹,台積電的7nm是在2018年推出的,5nm是在2020年推出的我們在2022年會如期推出3nm的工藝,而且我們2nm的工藝也在順利研發。

對於工藝製程來說,最關鍵的指標有三個:性能、功耗和密度(單位面積內的晶體管數量)。

羅鎮球稱,台積電從7nm到5nm再到3nm,單位面積裡面的晶體管數相比上一代都是會增長1.7到1.8倍,性能部分每代都會提升高超過10%。同樣性能情況下,功耗可以降低20%以上。

對於3nm量產困難的傳聞,羅鎮球表示,那些都只是傳聞,會如期(2022年)量產3nm。

據台積電官方資料顯示,台積電的3nm相比上一代的5nm工藝,在邏輯密度上提升了1.7倍,性能提升了11%,同等性能下功耗可降低25-30%

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