英特爾宣布制定新的架構路線圖,擬在2025年重回巔峰

英特爾公司今日宣布新的製程工藝和封裝技術路線圖,其目標是在2025年重新奪回在芯片製造領域的領先位置。英特爾公司CEO帕特·基辛格表示:“英特爾正利用我們無可比擬的持續創新的動力,實現從晶體管到系統層面的全面技術進步。”
英特爾高級副總裁兼技術開發總經理Ann Kelleher博士表示:“英特爾有着悠久的製程工藝基礎性創新的歷史,這些創新均驅動了行業的飛躍。”

英特爾高級副總裁兼技術開發總經理Ann Kelleher博士

英特爾高級副總裁兼技術開發總經理Ann Kelleher博士

據悉,未來的英特爾產品將不再使用基於納米的節點命名體系,該公司宣布為其製程節點引入了新的命名體系,稱其將“幫助客戶和行業對製程節點演進建立更準確的認知”。

例如,該公司新的10納米芯片將被命名為“Intel 7”,而不會像Intel 10nm SuperFin芯片那樣,再以10納米為基礎而命名。

此外,英特爾稱其有望率先獲得業界第一台High-NA EUV光刻機,並表示公司正與ASML密切合作,確保在這一行業突破性技術取得成功。

(0)
上一篇 2021-07-27 08:58
下一篇 2021-07-27 08:58

相关推荐